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半導體高光加工,常用100000轉(zhuǎn)高速氣浮主軸
半導體進行高光加工,常用日本中西NAKANISHI高速氣浮主軸 ABT-1000,轉(zhuǎn)速高達100000轉(zhuǎn)/min,直徑40mm,精度在1um以內(nèi),徑向可承受高達20N以下,軸向可承受高達35N以下,配小直徑刀具,進行高轉(zhuǎn)速、高精度高光加工,表面效果好,加工
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本文標簽: 高速氣浮主軸
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